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OEM PVD 5N+ 99.9995% 티타늄 타겟 고순도 반도체 타겟 얇은 필름
| 제품 이름: | 반도체 티타늄 타겟 소재 |
|---|---|
| 순수성: | 5N+(99.9993%-99.9995%) |
| 결정립 크기: | <100um |
99.99% 순수 스프터링 금속 타겟
| Surface: | Polished, Anodizing |
|---|---|
| Surface Finish: | Polished |
| Crystal Structure: | Customized |
스프터링 코팅을 위한 맞춤형 금속 타겟 단일 또는 복수 구성 Ra 0.8 Um
| Coating Method: | Sputtering |
|---|---|
| Technique: | Forged And CNC Machined |
| Target Configuration: | Single Or Multiple |
인디움 합금 스프터링 타겟
| Target Bonding: | Indium |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Surface Roughness: | Ra < 0.8 Um |
얇은 표면에 맞춤형 둥근 뜨거운 녹음 접착제 총 자유 낙하 금속 탐지
| Shape: | Round |
|---|---|
| Substrate Compatibility: | Customized |
| Thickness: | 10-600mm |