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키워드 [ aluminum niobium sputtering target ] 시합 5 상품.
금속 스퍼터 표적 티타늄 알루미늄 크롬 지르코늄 니켈 니오븀 탄탈 몰리브덴 PVD 코팅 증발
소재: | 티타늄 알루미늄 크롬 지르코늄 니켈 니오븀 탄탈 몰리브덴 |
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형태: | cylinder/planar,Round/plate/tube |
크기: | 만곡되세요 :Φ100*40, Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40, Φ85*35, Φ65*40 etc(D)70/100*(H)100-2000mm |
구두 틀니를 위한 티타늄 침을 튀기기 표적 원판 98x14mm 97x16mm ASTM F67
소재: | 티타늄 Gr1 Gr2 Gr3 Gr4 |
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표준: | ASTM F67 |
형태: | 라운드 디스크 / |
스퍼터링 타겟 크롬 크롬 100x40mm 열간 등방성 압착
소재: | 크롬 / Cr |
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순수성: | 99.5%~99.95% |
크기: | φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm 기타 등등 |
니오비아 엽 플라트 엽 0.03-10mm 보석 수페라브라시브 R04200-1 R04210-2
밀도: | 8.57g/cm3 |
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산화 상태: | +5, +3 |
Trial Order: | Accepted |
보석품용 고순도 99.95% 밝은 니오브륨 판 판 초전도
Evaporation Method: | Electron gun, Cathode sputtering |
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Electron Configuration: | [Kr] 4d4 5s1 |
Young'S Modulus: | 105 GPa |
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