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금속 스퍼터 표적 티타늄 알루미늄 크롬 지르코늄 니켈 니오븀 탄탈 몰리브덴 PVD 코팅 증발
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x제품 상세 정보
| 소재 | 티타늄 알루미늄 크롬 지르코늄 니켈 니오븀 탄탈 몰리브덴 | 형태 | cylinder/planar,Round/plate/tube |
|---|---|---|---|
| 크기 | 만곡되세요 :Φ100*40, Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40, Φ85*35, Φ65*40 etc(D)70/100*(H)100-2000mm | 순수성 | 2N5-5N |
| 적용 | PVD 코팅, 전기 도금 분야, 박막 코팅, 유리 산업 | 코팅 컬러 | 장미빛 금 / 커피 / 샴페인 금 / 총 grey/black/gold/blue/rainbow/light 흑인 / 은메달 / 백인 |
| 강조하다 | 타겟을 스퍼터링시키는 PVD 코팅 증발 금속,목표물을 스퍼터링시키는 라운드 니오븀,타겟을 스퍼터링시키는 알루미늄 니오븀 |
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제품 설명
금속 스프터링 목표 티타늄 알루미늄 크롬 지르코늄 니켈 니오비아 탕탈륨 몰리브덴 PVD 코팅 증발
금속 스프터링 타겟은 물질을 얇은 금속 층으로 코팅하기 위해 물리적 증기 퇴적 (PVD) 공정에서 사용됩니다. 스프터링 타겟에 사용되는 일반적인 금속에는 티타늄, 알루미늄,크롬지르코늄, 니켈, 니오비아, 탄탈, 몰리브덴
| 항목 | 순수성 | 밀도 | 코팅 색상 | 형태 | 표준 크기 | |
| 티타늄 알루미늄 (TiAl) 합금 목표 | 2N8-4N | 3.6-42 | 로즈 골드/커피/샴페인 골드 | 실린더/플래너 | (D) 70/100* (H) 100-2000mm |
PVD 장식용 코팅 & 단단한 코팅 |
| 순수한 크롬 (Cr) 표적 | 2N7-4N | 7.19 | 총 회색/검은 | 실린더/플래너 | (D) 70/100* (H) 100-2000mm | |
| 순수한 티타늄 (Ti) 목표물 | 2N8-4N | 4.51 | 황금/로즈 황금/푸른/무지개/백색/총 회색 | 실린더/플래너 | (D) 70/100* (H) 100-2000mm | |
| 순수한 지르코늄 (Zr) 목표물 | 2N5-4N | 6.5 | 광금 | 실린더/플래너 | (D) 70/100* (H) 100-2000mm | |
| 순수한 알루미늄 (Al) 목표물 | 4N-5N | 2.7 | 은 | 실린더/플래너 | (D) 70/100* (H) 100-2000mm | |
| 순수한 니켈 (Ni) 목표물 | 3N-4N | 8.9 | 니켈 | 실린더/플래너 | (D) 70/100* (H) 100-2000mm | |
| 순수한 니오비아 (Nb) 목표물 | 3N | 8.57 | 흰색 | 실린더/플래너 | (D) 70/100* (H) 100-2000mm | |
| 순수한 탄탈 (Ta) 목표물 | 3N5 | 16.4 | 흑색/순색 | 실린더/플래너 | (D) 70/100* (H) 100-2000mm | |
| 순수한 몰리브덴 (Mo) 목표물 | 3N5 | 10.2 | 검은색 | 실린더/플래너 | (D) 70/100* (H) 100-2000mm | |
| 참고: 크기는 특정 요구 사항에 따라 사용자 정의 할 수 있습니다. | ||||||
적용 분야
반도체 퇴적, 화학 증기 퇴적 (CVD) 및 물리적 증기 퇴적 (PVD) 을 포함한 퇴적 공정에서 사용됩니다.
착용 보호, 장식 코팅 및 디스플레이를 포함한 광학에 사용됩니다.
제품 장점
01높은 화학 순수성
02낮은 가스 함량
03밀도가 100% 가까이
04균일 곡물
05밀집하고 균일한 내부 구조
각종 물리 증기 퇴적 (PVD) 및 증발 코팅 용도로 사용되는 금속 스프터링 타겟
다양한 기판에 얇은 필름의 퇴적을 포함합니다. 다음은 특정 금속에 대한 몇 가지 세부 사항입니다.
1티타늄: 티타늄 스프터링 타겟은 일반적으로 PVD 및 증발 코팅 응용 프로그램에서 다양한 기판에 얇은 필름을 저장하는 데 사용됩니다.티타늄 은 생물 호환성 이고 우수한 기계적 특성 이 있기 때문 에 코팅 에 사용 되는 인기 있는 재료 이다
2알루미늄: 알루미늄 스프터링 타겟은 PVD 및 증발 코팅 응용 프로그램, 특히 반사 코팅 및 전자 부품의 생산에 사용됩니다.알루미늄 코팅은 전기 전도성이 좋고 반사력이 뛰어나다, 광학 및 전자 애플리케이션에 사용하기에 적합합니다.
3크롬: 크롬 스프터링 타겟은 PVD 및 증발 코팅 응용 프로그램에서 장식 코팅의 생산을 포함하여 산업 및 장식 용도로 사용됩니다.자동차 부품, 전자 부품.
4지르코늄: 지르코늄 스프터링 타겟은 높은 녹기점과 뛰어난 부식 저항성으로 인해 PVD 및 증발 코팅 응용 프로그램에서 일반적으로 사용됩니다.지르코늄 코팅은 장식 코팅 및 고성능 전자 부품의 생산에 일반적으로 사용됩니다..
5니켈: 니켈 스프터링 타겟은 PVD 및 증발 코팅 응용 프로그램, 특히 전자 구성 요소에 대한 자기 얇은 필름 및 코팅의 생산에 널리 사용됩니다.니켈 코팅 은 장식용 용품 으로도 흔히 사용 된다.
6니오비아: 니오비아 스프터링 타겟은 높은 녹는점, 낮은 열 확장 계수 및 뛰어난 화학 저항성으로 인해 PVD 및 증발 코팅 응용 프로그램에서 사용됩니다.니오빔 코팅은 일반적으로 고성능 전자 부품 및 광학 코팅의 생산에 사용됩니다..
7탄탈: 탄탈 스프터링 타겟은 높은 녹기점, 우수한 화학 저항성 및 낮은 증기 압력으로 PVD 및 증발 코팅 응용 프로그램에서 사용됩니다.탄탈 코팅은 일반적으로 콘덴서 생산에 사용됩니다., 전자 부품 및 의료 임플란트
8몰리브덴: 몰리브덴 스프터링 타겟은 높은 녹기점, 낮은 열 확장 계수,그리고 우수한 전기 전도성몰리브덴 코팅은 일반적으로 고성능 전자 부품 및 광학 코팅의 생산에 사용됩니다.
