99.99% 순수성 HIP 둥근 정전적 분말 코팅 총

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제품 상세 정보
Shape Round Thickness 10-600mm
Coating Method Sputtering Target Configuration Single Or Multiple
Forming Process Hot Isostatic Pressing(HIP) Surface Polished, Anodizing
Purity 99.99% Surface Finish Polished
강조하다

HIP 라운드 전극적 파우더 코팅 총

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99.99% 순수 전극적 파우더 코팅 총

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제품 설명

제품 설명:

금속 스프터링 타겟의 결정 구조는 각 응용 프로그램의 고유 한 요구 사항을 충족하도록 사용자 정의 할 수 있습니다. 표적이 부드러운 표면을 보장하기 위해 닦입니다.최적의 결과를 얻기 위해 필수적인· 표면 또한 강화 된 내구성 및 마모에 대한 저항을 위해 anodized 될 수 있습니다.

금속 스프터링 타겟의 순도는 99.99%로 시간이 지남에 따라 일관된 성능을 제공합니다.이 높은 순수 수준 은 첨단 기술 과 기술 을 이용 하는 엄격 한 제조 과정 을 통해 달성 됩니다.

금속 스프터링 타겟은 인디엄과 결합되어 기체에 강력하고 신뢰할 수있는 연결을 제공합니다.이 결합 과정은 스프터링 과정에서 목표물이 단단히 고정되어 있는지 확인하는 데 중요합니다..

금속 스프터링 타겟은 정전적 파우더 코팅 총, 탄소 스틸 I 빔 또는 뜨거운 녹음 접착 총을 사용하는 것을 포함하여 다양한 스프터링 시스템과 호환됩니다.이 호환성 때문에 다양한 산업 및 과학 응용 분야에 사용할 수 있는 다재다능 제품입니다..

전체적으로, 금속 스프터링 타겟은 신뢰성 있고 일관된 성능을 제공하는 고품질 제품입니다.그리고 높은 순수성 때문에 다양한 응용 분야에 이상적인 선택입니다., 인디움과 강한 결합이 스프터링 과정에서 단단하게 유지되도록 보장합니다.


특징:

  • 제품명: 금속 스프터링 표적
  • 표면 거칠성: Ra < 0.8 Um
  • 대상 구성: 단일 또는 복수
  • 표면: 닦은, 고화
  • 표면 마감: 닦은
  • 순수성: 99.99%

이 금속 스프터링 타겟 제품은 공정에 고 순수 금속을 필요로하는 산업에 이상적입니다. Ra < 0.8 Um을 보장하기 위해 표면 거름이 신중하게 제어됩니다.목표 구성은 단일 또는 여러 목표가 될 수 있습니다., 귀하의 요구 사항에 따라. 표면은 당신의 선호도에 따라 닦거나 고금화 될 수 있습니다. 표면 마무리 항상 분출 과정이 일관성을 보장하기 위해 닦입니다.금속의 순수도는 99입니다.이 제품은 3D 프린팅 금속 파우더, 탄소 강철 I 빔,그리고 핫 슬롯 접착기 제조 과정.


기술 매개 변수:

밀도 맞춤형
목표물 결합 인디움
코팅 방법 스프터링
기판 호환성 맞춤형
기술 도장 및 CNC 가공
표면 반짝이고, 고화
소재 금속
형태 둥근
표면 마감 닦은
형성 과정 뜨거운 동역 압축 (HIP)

응용 프로그램:

메탈 스프터링 타겟의 주요 응용 분야 중 하나는 반도체 제조입니다. 일반적으로 실리콘 웨이퍼에 얇은 필름 코팅을위한 퇴적 재료로 사용됩니다.금속 스프터링 타겟은 태양 전지 생산에도 사용됩니다.또한 이 재료 는 하드 디스크 드라이브 와 같은 자기 저장 매체 의 생산 에 사용 하기 에 이상적 이다.

금속 스프터링 타겟의 또 다른 응용 분야는 장식 코팅의 생산입니다.물질은 다양한 표면에 부드럽고 균일한 코팅을 만들기 위해 정전적 분말 코팅 총에 사용됩니다금속, 플라스틱 및 유리를 포함하여 금속 스프터링 타겟은 고성능 합금 강철 금속 제조에도 사용됩니다.일반적으로 항공우주 및 자동차 산업에서 사용됩니다..

또한 금속 스프터링 타겟은 의료 기기 및 장비의 생산에 널리 사용됩니다. 이 물질은 심장 박동기, 보청기,다른 의료용 임플란트또한 의료 기기 및 도구의 생산에 사용됩니다.

금속 스프터링 타겟은 뜨거운 동전 압축 (HIP) 및 다양한 가공 프로세스를 포함하여 광범위한 제조 프로세스와 호환됩니다.또한 높은 정확성 및 정확성 을 요구하는 응용 프로그램 에서 사용 하기 위해 이상적입니다재료는 특정 응용 요구 사항에 따라 단일 또는 여러 타겟으로 구성 될 수 있습니다.

금속 스프터링 타겟은 또한 컨베이어 금속 탐지 기계에서 사용하기에 적합합니다. 그것은 부식 및 마모에 매우 내성이 있으며, 가혹한 환경에서 사용하기에 이상적인 선택입니다.또한 이 재료 는 깨끗 하고 유지 관리 하기 쉽다, 다양한 애플리케이션에 대한 비용 효율적인 솔루션입니다.


사용자 정의:

우리의 제품 사용자 정의 서비스로 금속 스프터링 타겟을 사용자 정의합니다. 다음 속성 중 하나를 선택:

  • 표면 거칠성: Ra < 0.8 Um
  • 표면: 닦은, 고화
  • 크리스탈 구조: 사용자 정의
  • 형태: 둥글다
  • 형성 과정: 고온 동역 압축 (HIP)

우리의 금속 스프터링 타겟은 고품질의 탄소 강철 I 빔으로 만들어졌으며 우리의 자유 낙하 금속 탐지 기술과 호환됩니다.우리는 3D 프린팅 금속 가루를 제공 귀하의 사용자 정의 요구 사항.


지원 및 서비스:

우리의 금속 스프터링 타겟 제품은 반도체, 디스플레이 및 태양광 산업에서 얇은 필름 퇴적의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다.우리는 순수한 금속을 포함하여 다양한 재료를 제공합니다., 합금 및 세라믹은 다양한 모양과 크기로 특정 프로세스 요구 사항에 맞습니다.

우리의 기술 지원 팀은 재료 선택, 목표 결합 및 프로세스 최적화 등 우리의 스프터링 목표물에 대한 질문이있을 수 있도록 지원합니다.우리는 또한 사용자 정의 목표 디자인 및 제조 서비스를 제공 귀하의 고유 요구 사항을 충족.

우리의 스프터링 목표 제품 외에도, 우리는 또한 당신의 얇은 필름 퇴적 프로세스를 지원하는 다양한 서비스를 제공합니다.

  • 타겟 채권 서비스
  • 대상 재활용 및 복원
  • 얇은 필름 특성화 및 분석
  • 장비 유지 및 수리

우리의 목표는 고품질의 제품과 서비스를 제공하여 얇은 필름 퇴적 목표를 달성하는 데 도움이됩니다.우리의 금속 스프터링 타겟 제품과 서비스에 대해 더 많은 것을 배우기 위해 오늘 저희에게 연락.